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產品名稱：ALK-PEG-SCM 的抗污涂層制備

一、反應機制示例

1. 醛基與氨基的席夫堿反應

反應條件：

緩沖液：pH 5-7（如MES），室溫，數小時完成。

還原劑：氰基硼氫化鈉（NaBH?CN），用于穩定席夫堿鍵。

應用場景：

蛋白質交聯、納米顆粒功能化、糖基化修飾。

2. SCM與巰基的二硫鍵形成

反應條件：

緩沖液：pH 8-10（如硼酸鹽緩沖液），室溫，數小時完成。

副產物：硫脲（可通過透析或離心去除）。

應用場景：

生物分子修飾、材料交聯。

二、應用實例

腫瘤靶向脂質體：

ALK-PEG-SCM修飾脂質體 → 醛基端連接阿霉素（通過席夫堿反應） → SCM端連接紫杉醇（通過二硫鍵） → 葉酸端靶向腫瘤細胞 → 實現還原響應聯合化療。

糖基化疫苗載體：

ALK-PEG-SCM修飾病毒樣顆粒（VLP） → 醛基端連接甘露糖 → SCM端連接免疫佐劑 → 用于樹突狀細胞靶向遞送，增強免疫應答。

抗污涂層制備：

ALK-PEG-SCM修飾玻璃表面 → 醛基端連接PEG鏈 → SCM端連接抗污肽 → 減少90%以上蛋白吸附，用于生物傳感器基底。

溫馨提示：僅用于科研，不能用于人體實驗！wyh

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